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電子化學-產品細項
電子化學產品細項，請點選「了解詳情」
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► IC製程運用
IC之製作過程是應用晶片氧化層成長、微影技術、蝕刻、清洗、雜質擴散、離子植入及薄膜沉積等技術。可提供以上製程所需化學品，或客製化蝕刻液、去光阻液。
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► Bumping製程運用
晶圓凸塊簡稱凸塊。可分為金凸塊（Gold bumping）及錫鉛凸塊（Solder bumping），利用薄膜製程或化學鍍製程技術及電鍍或印刷技術，將銲錫或金直接置於IC腳墊上，可提供製程上所需客製化蝕刻液與去光阻劑。
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► TFT-LCD製程
TFT LCD的顯像方式為於上下透明電極間注入液晶層，藉由輸入畫素(Pixel)電極電壓的方式來控制液晶夾層電場大小，進而調節穿透光的強度，使產生介於全亮與全暗之間的灰階畫面(Gray level)。TFT-LCD的每個Pixel均具有一組TFT來控制其電壓值，而欲使背光模組光線透過LC並具有不同的顏色，則需要紅、藍、綠(R/B/G)三種顏色的色阻成膜在CF玻璃上，搭配灰階產生全彩效果；在分別完成TFT陣列和CF基板製作後，接著將CF上板與TFT下板間灌注LC並對組貼合，最後附上偏光板(Polarizer
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► Touch Panel製程
電容式觸控面板是在螢幕、玻璃觸控面板都塗上導電材料，形成能夠在水平和垂直方向形成帶電之電場，構成一精密控制的電容面板。可提供制程所需化学品及客制化商品。
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► LED產業
可分為上游磊晶製造、中游晶粒、下游封裝以及系統組裝，可提供客製化去光阻劑，用於磊晶製程。
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► MOSFET BGBM製程
提供客製化蝕刻液，用以矽濕蝕刻消除研磨應力與矽表面粗糙化。
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單酸
包含DHF、EL、H2O2、H2SO4、H3PO4....等多項產品
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► 單酸鹼溶劑
單酸、單鹼、溶劑
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單鹼
包含KOH、NaClO、NAOH、NH4OH、TMAH....等多項產品
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► Taimax研發產品
Taimax研發產品包含：金屬蝕刻液、去光阻液、精密清洗液
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溶劑
包含2-pyrol、ACE、CLS-980、CPN、CYN/AN....等多項產品
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金屬蝕刻液(Metal Etchant)
包含Ag Etch-126、Ag Etch-192、Ag Etch-319、Al Etch 85-2-13、Al Etch 868....等多項產品
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去光阻液(Stripper)
包含PIS-509、PIS-523、PRS-124、PRS-278、PRS-530、PRS-615....等多項產品
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精密清洗液(Remover)
包含CLS-116、CLS-122、CLS-574、CLS-904、CLS-980、CLS-2200....等多項產品
